Substrattisch, Lithografische Vorrichtung und Verfahren zum Betrieb einer Lithografischen Vorrichtung
EP3387491
Art B1
1. Januar 2020
Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP3387491
- Aktenzeichen
- EP16790343
- Anmeldetag
- 2. November 2016
- Veröffentlichung
- 1. Januar 2020
- Erteilung
- 1. Januar 2020
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ASML Netherlands B.V.
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
3.336 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
Dung, Shiang-Lung
Veldhoven, Niederlande
20
Patente gesamt
6
Fachgebiete
1
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Schwerpunkte
Weitere Vertreter
-
ASML Netherlands B.V
ASML Netherlands B.V · Veldhoven