Membran zur Euv-Lithographie

EP3391138 Art A1 24. Oktober 2018

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP3391138
Aktenzeichen
EP16805430
Anmeldetag
2. Dezember 2016
Veröffentlichung
24. Oktober 2018
Rechtsraum
EP
IPC
G03F1/24G03F1/62G03F7/20
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
ASML Netherlands B.V.
Land
🇳🇱 Niederlande
🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

3.336 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Vertreten von
Filip, Diana Veldhoven, Niederlande
14
Patente gesamt
3
Fachgebiete
1
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