Waferträgermechanismus, Vorrichtung für Chemische Gasphasenabscheidung und Herstellungsverfahren für einen Epitaktischen Wafer
EP3396703
Art B1
7. Juni 2023
Anmelder: Resonac Corporation, Showa Denko K.K. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP3396703
- Aktenzeichen
- EP16878443
- Anmeldetag
- 12. Dezember 2016
- Veröffentlichung
- 7. Juni 2023
- Erteilung
- 7. Juni 2023
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/31C23C16/44C23C16/458C30B25/12H01L21/205H01L21/683H01L21/677H01L21/673C30B25/10C30B25/14
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Resonac Corporation
Showa Denko K.K. - Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Resonac
Japanischer Chemiekonzern mit Sitz in Tokio, hervorgegangen aus Showa Denko. Das Unternehmen stellt unter anderem Halbleitermaterialien, Elektronikchemikalien und funktionale Chemieprodukte her.
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🇯🇵
Showa Denko
Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio, seit 2023 als Resonac Holdings firmierend. Aktiv in Petrochemie, Elektronikmaterialien, Batteriematerialien sowie Halbleiterchemikalien.
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