Kontrol-System und Verfahren für eine Lithographie-Vorrichtung
EP3398271
Art B1
31. Januar 2024
Anmelder: ASML Netherlands B.V., Mapper Lithography IP B.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP3398271
- Aktenzeichen
- EP16820289
- Anmeldetag
- 23. Dezember 2016
- Veröffentlichung
- 31. Januar 2024
- Erteilung
- 31. Januar 2024
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H04J3/06H04L7/00H01J37/317H01J37/302G06F1/14G06F13/40G03F7/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- ASML Netherlands B.V.
Mapper Lithography IP B.V. - Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
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Vertreten von
-
ASML Netherlands B.V
ASML Netherlands B.V · Veldhoven