Verfahren zur Reinigung eines Wachstumsofens für Sic-Einkristall
EP3399076
Art B1
11. Mai 2022
Anmelder: Showa Denko K.K. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP3399076
- Aktenzeichen
- EP16881725
- Anmeldetag
- 26. Dezember 2016
- Veröffentlichung
- 11. Mai 2022
- Erteilung
- 11. Mai 2022
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C30B29/36C23C14/00C23C16/44C23C14/56C30B23/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Showa Denko K.K.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Showa Denko
Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio, seit 2023 als Resonac Holdings firmierend. Aktiv in Petrochemie, Elektronikmaterialien, Batteriematerialien sowie Halbleiterchemikalien.
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