Verfahren zur Messung eines Ziels, Metrologievorrichtung, Lithographiezelle und Ziel
EP3404488
Art A1
21. November 2018
Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP3404488
- Aktenzeichen
- EP17171935
- Anmeldetag
- 19. Mai 2017
- Veröffentlichung
- 21. November 2018
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/20G03F9/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ASML Netherlands B.V.
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
3.336 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
Broeken, Petrus Henricus Johannes
Veldhoven, Niederlande
88
Patente gesamt
5
Fachgebiete
1
Anmelder-Länder
Schwerpunkte