Fotomaskenrohling und Fotomaske
EP3422099
Art B1
20. April 2022
Anmelder: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP3422099
- Aktenzeichen
- EP18176359
- Anmeldetag
- 6. Juni 2018
- Veröffentlichung
- 20. April 2022
- Erteilung
- 20. April 2022
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F1/54G03F1/58
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Shin-Etsu Chemical
Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.
4.656 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
Stoner, Gerard Patrick
London, Großbritannien
1.364
Patente gesamt
33
Fachgebiete
10
Anmelder-Länder
Schwerpunkte
Weitere Vertreter
-
Mewburn Ellis LLP
Mewburn Ellis LLP · München