Elektronenstrahlsystem zur Aberrationskorrektur

EP3428949 Art B1 15. April 2020

Anmelder: Jeol Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP3428949
Aktenzeichen: EP18191311
Anmeldetag: 30. August 2007
Veröffentlichung: 15. April 2020
Erteilung: 15. April 2020
Rechtsraum: EP
IPC: H01J37/153H01J37/147

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Jeol Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JEOL

Japanisches Unternehmen mit Sitz in Tokio, das wissenschaftliche und industrielle Präzisionsgeräte entwickelt, darunter Elektronenmikroskope, Analysegeräte und Halbleiterfertigungsanlagen.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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