Membran und Herstellungsverfahren für Membran
EP3435685
Art B1
6. September 2023
Anmelder: Goertek Inc 🇨🇳
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP3435685
- Aktenzeichen
- EP16895020
- Anmeldetag
- 24. Mai 2016
- Veröffentlichung
- 6. September 2023
- Erteilung
- 6. September 2023
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H04R7/06H04R31/00H04R1/06H04R7/10
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Goertek Inc
- Land
- 🇨🇳 China
🇨🇳
Goertek
Chinesischer Elektronikhersteller mit Sitz in Weifang, spezialisiert auf akustische Komponenten, Mikrofone und Zulieferteile für Unterhaltungselektronik.
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