Zusammensetzung zum Chemisch-Mechanischen Planarisieren (cmp) und Verfahren dafür für Kupfer- und Siliciumdioxiddurchkontaktierungsanwendungen

EP3444309 Art B1 16. Juli 2025

Anmelder: Versum Materials US, LLC 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP3444309
Aktenzeichen
EP18189581
Anmeldetag
17. August 2018
Veröffentlichung
16. Juli 2025
Erteilung
16. Juli 2025
Rechtsraum
EP
IPC
C09G1/02H01L21/304H01L21/321
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
Versum Materials US, LLC
Land
🇺🇸 USA
🇺🇸 Versum Materials US

Versum Materials US, LLC war ein US-amerikanischer Hersteller von Spezialchemikalien und -gasen für die Halbleiterfertigung, der 2019 von Merck KGaA übernommen wurde. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Halbleiter und elektrische Bauelemente sowie Oberflächentechnik, ergänzt um Farben, Klebstoffe und organische Chemie. Anmeldungen erfolgten zwischen 2002 und 2025.

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