Zusammensetzung zum Chemisch-Mechanischen Planarisieren (cmp) und Verfahren dafür für Kupfer- und Siliciumdioxiddurchkontaktierungsanwendungen
EP3444309
Art B1
16. Juli 2025
Anmelder: Versum Materials US, LLC 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP3444309
- Aktenzeichen
- EP18189581
- Anmeldetag
- 17. August 2018
- Veröffentlichung
- 16. Juli 2025
- Erteilung
- 16. Juli 2025
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C09G1/02H01L21/304H01L21/321
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Versum Materials US, LLC
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Versum Materials US
Versum Materials US, LLC war ein US-amerikanischer Hersteller von Spezialchemikalien und -gasen für die Halbleiterfertigung, der 2019 von Merck KGaA übernommen wurde. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Halbleiter und elektrische Bauelemente sowie Oberflächentechnik, ergänzt um Farben, Klebstoffe und organische Chemie. Anmeldungen erfolgten zwischen 2002 und 2025.
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Vertreten von
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Beck Greener LLP
Beck Greener LLP · London
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Beck Greener
Beck Greener · London