Fotomaskenrohling, Verfahren zur Herstellung eines Fotomaskenrohlings und Verfahren zur Herstellung einer Fotomaske

EP3444670 Art B1 8. Januar 2020

Anmelder: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP3444670
Aktenzeichen: EP18183740
Anmeldetag: 16. Juli 2018
Veröffentlichung: 8. Januar 2020
Erteilung: 8. Januar 2020
Rechtsraum: EP
IPC: G03F1/80G03F1/20G03F1/26G03F1/32G03F1/38

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Shin-Etsu Chemical

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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