Plasmonische Nanostruktur mit Opferpassivierungsbeschichtung

EP3446104 Art B1 19. Januar 2022

Anmelder: Hewlett-Packard Development Company, L.P. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP3446104
Aktenzeichen: EP16899617
Anmeldetag: 19. April 2016
Veröffentlichung: 19. Januar 2022
Erteilung: 19. Januar 2022
Rechtsraum: EP
IPC: G01N21/65B01L3/00

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Hewlett-Packard Development Company, L.P.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Hewlett-Packard

US-amerikanischer Technologiekonzern mit Sitz in Palo Alto, Kalifornien. Aktiv in Computerhardware, Druckern, Speicherlösungen sowie Unternehmens-IT und Cloud-Infrastruktur.

13.594 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Verfahrens- & Trenntechnik

Vertreten von