Verfahren und System zur Entfernung Und/oder Vermeidung von Verunreinigungen in Ladungsteilchenstrahlsystemen

EP3446325 Art A2 27. Februar 2019

Anmelder: ASML Netherlands B.V., Mapper Lithography IP B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP3446325
Aktenzeichen: EP17728669
Anmeldetag: 21. April 2017
Veröffentlichung: 27. Februar 2019
Rechtsraum: EP
IPC: H01J37/317H01J37/02

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: ASML Netherlands B.V.
Mapper Lithography IP B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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