Membran für Euv-Lithografie

EP3449312 Art B1 31. Mai 2023

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP3449312
Aktenzeichen
EP17717149
Anmeldetag
12. April 2017
Veröffentlichung
31. Mai 2023
Erteilung
31. Mai 2023
Rechtsraum
EP
IPC
G03F1/24G03F1/62G03F7/20
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
ASML Netherlands B.V.
Land
🇳🇱 Niederlande
🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

3.336 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Vertreten von
Filip, Diana Veldhoven, Niederlande
14
Patente gesamt
3
Fachgebiete
1
Anmelder-Länder
Zum Anwaltsprofil
Weitere Vertreter

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen