Verfahren zur Herstellung einer Halbleiterscheibe aus Einkristallinem Silizium und Vorrichtung zur Herstellung einer Halbleiterscheibe aus Einkristallinem Silizium
EP3464688
Art B1
17. Juni 2020
Anmelder: Siltronic AG 🇩🇪
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP3464688
- Aktenzeichen
- EP17724025
- Anmeldetag
- 17. Mai 2017
- Veröffentlichung
- 17. Juni 2020
- Erteilung
- 17. Juni 2020
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C30B15/04C30B15/14C30B15/20C30B15/30C30B29/06
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Siltronic AG
- Land
- 🇩🇪 Deutschland
🇩🇪
Siltronic
Deutscher Halbleiterzulieferer mit Sitz in München. Siltronic stellt hochreine Siliziumwafer für die Chip- und Elektronikindustrie her.
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