Verbessertes Verfahren zur Computermodellierung und Simulation von Negativtonentwickelbaren Photoresists
EP3465349
Art B1
7. Juli 2021
Anmelder: Kla-Tencor Corporation 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP3465349
- Aktenzeichen
- EP17828585
- Anmeldetag
- 14. Juli 2017
- Veröffentlichung
- 7. Juli 2021
- Erteilung
- 7. Juli 2021
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/30G03F7/32G03F7/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Kla-Tencor Corporation
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
KLA Corporation
US-amerikanisches Unternehmen (frühere Firmierung KLA-Tencor), das Prozesskontroll- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung entwickelt.
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