Sputtertarget und Herstellungsverfahren dafür
EP3467142
Art B1
3. August 2022
Anmelder: JX Advanced Metals Corporation, JX Metals Corporation, JX Nippon Mining & Metals Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP3467142
- Aktenzeichen
- EP17810359
- Anmeldetag
- 7. Juni 2017
- Veröffentlichung
- 3. August 2022
- Erteilung
- 3. August 2022
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C23C14/34
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- JX Advanced Metals Corporation
JX Metals Corporation
JX Nippon Mining & Metals Corporation - Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
JX Nippon Mining & Metals
JX Nippon Mining & Metals Corporation ist ein japanisches Unternehmen der Nichteisenmetallindustrie, das Kupfer, Halbleitermaterialien und Metallverarbeitung herstellt, Teil der ENEOS-Gruppe.
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Fachgebiete
Vertreten von
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Mewburn Ellis LLP
Mewburn Ellis LLP · München