Strahlungsquelle
EP3469425
Art B1
2. August 2023
Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP3469425
- Aktenzeichen
- EP17727209
- Anmeldetag
- 1. Juni 2017
- Veröffentlichung
- 2. August 2023
- Erteilung
- 2. August 2023
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F9/00G02F1/365G03F7/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ASML Netherlands B.V.
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
3.336 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
Willekens, Jeroen Pieter Frank
Eindhoven, Niederlande
49
Patente gesamt
11
Fachgebiete
2
Anmelder-Länder
Schwerpunkte
Weitere Vertreter
-
ASML Netherlands B.V
ASML Netherlands B.V · Veldhoven