Verfahren zur Optimierung der Position Und/oder Grösse eines Messbeleuchtungspunkts in Bezug auf ein Ziel auf einem Substrat sowie Zugehörige Vorrichtung
EP3470924
Art A1
17. April 2019
Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP3470924
- Aktenzeichen
- EP17195853
- Anmeldetag
- 11. Oktober 2017
- Veröffentlichung
- 17. April 2019
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ASML Netherlands B.V.
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
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Fachgebiete
Vertreten von
Broeken, Petrus Henricus Johannes
Veldhoven, Niederlande
88
Patente gesamt
5
Fachgebiete
1
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Schwerpunkte