Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung von Beschichteten Halbleiterscheiben

EP3475472 Art B1 11. August 2021

Anmelder: Siltronic AG 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP3475472
Aktenzeichen
EP17733997
Anmeldetag
13. Juni 2017
Veröffentlichung
11. August 2021
Erteilung
11. August 2021
Rechtsraum
EP
IPC
C23C16/44C23C16/455C30B25/14C30B29/06C23C16/458
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
Siltronic AG
Land
🇩🇪 Deutschland
🇩🇪 Siltronic

Deutscher Halbleiterzulieferer mit Sitz in München. Siltronic stellt hochreine Siliziumwafer für die Chip- und Elektronikindustrie her.

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