Vorrichtung zur Handhabung einer Halbleiterscheibe in einem Epitaxie-Reaktor und Verfahren zur Herstellung einer Halbleiterscheibe mit Epitaktischer Schicht
EP3485508
Art B1
2. September 2020
Anmelder: Siltronic AG 🇩🇪
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP3485508
- Aktenzeichen
- EP17739514
- Anmeldetag
- 3. Juli 2017
- Veröffentlichung
- 2. September 2020
- Erteilung
- 2. September 2020
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/687C30B25/12
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Siltronic AG
- Land
- 🇩🇪 Deutschland
🇩🇪
Siltronic
Deutscher Halbleiterzulieferer mit Sitz in München. Siltronic stellt hochreine Siliziumwafer für die Chip- und Elektronikindustrie her.
281 Patente in unserer Datenbank