Maske für Extrem-Uv-Lithographie und Verfahren zur deren Herstellung

EP3486721 Art A1 22. Mai 2019

Anmelder: IMEC vzw 🇧🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP3486721
Aktenzeichen: EP17202392
Anmeldetag: 17. November 2017
Veröffentlichung: 22. Mai 2019
Rechtsraum: EP
IPC: G03F1/00G03F1/24G03F1/32G03F1/38G03F1/46G03F1/48

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: IMEC vzw
Land: 🇧🇪 Belgien

🇧🇪 imec

Imec ist ein belgisches Forschungszentrum mit Sitz in Leuven, das auf Nanoelektronik, Halbleitertechnologie und digitale Technologien spezialisiert ist.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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