Lithographische Vorrichtung, Vorrichtung zur Lithographischen Projektion und Vorrichtungsherstellungsverfahren

EP3488293 Art A1 29. Mai 2019

Anmelder: ASML Netherlands B.V., Carl Zeiss SMT GmbH 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP3488293
Aktenzeichen
EP17730175
Anmeldetag
16. Juni 2017
Veröffentlichung
29. Mai 2019
Rechtsraum
EP
IPC
G03F7/20
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firmen
ASML Netherlands B.V.
Carl Zeiss SMT GmbH
Land
🇳🇱 Niederlande
🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

3.336 Patente in unserer Datenbank

🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

1.949 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen