Fotomaskenrohling, Verfahren zur Herstellung einer Fotomaske und Fotomaske

EP3492981 Art B1 5. Januar 2022

Anmelder: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP3492981
Aktenzeichen: EP18203305
Anmeldetag: 30. Oktober 2018
Veröffentlichung: 5. Januar 2022
Erteilung: 5. Januar 2022
Rechtsraum: EP
IPC: G03F1/26G03F1/32G03F1/58G03F1/80

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Shin-Etsu Chemical

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.

4.656 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Optik & Fototechnik

Vertreten von