Projektionsbelichtungsverfahren und Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithographie

EP3516456 Art B1 30. November 2022

Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP3516456
Aktenzeichen: EP17758853
Anmeldetag: 24. August 2017
Veröffentlichung: 30. November 2022
Erteilung: 30. November 2022
Rechtsraum: EP
IPC: G03F7/20G03F7/095

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Carl Zeiss SMT GmbH
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

1.949 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Optik & Fototechnik

Vertreten von