Optische Nahfeldmetrologie

EP3519762 Art A2 7. August 2019

Anmelder: KLA-Tencor Corporation 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP3519762
Aktenzeichen
EP17856951
Anmeldetag
10. Juli 2017
Veröffentlichung
7. August 2019
Rechtsraum
EP
IPC
G03F7/20G01B11/02G01B9/02
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
KLA-Tencor Corporation
Land
🇺🇸 USA
🇺🇸 KLA Corporation

US-amerikanisches Unternehmen (frühere Firmierung KLA-Tencor), das Prozesskontroll- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung entwickelt.

495 Patente in unserer Datenbank

Vertreten von

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen