Verfahren zur Bestimmung einer Optimalen Fokushöhe für eine Metrologievorrichtung
EP3521929
Art A1
7. August 2019
Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP3521929
- Aktenzeichen
- EP18154864
- Anmeldetag
- 2. Februar 2018
- Veröffentlichung
- 7. August 2019
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/20G02B7/38
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ASML Netherlands B.V.
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
3.336 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
Broeken, Petrus Henricus Johannes
Veldhoven, Niederlande
88
Patente gesamt
5
Fachgebiete
1
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Schwerpunkte