Lithografische Vorrichtung mit einem Objekt mit einer Oberen Schicht mit Verbesserter Beständigkeit gegen Abschälen
EP3559748
Art B1
29. März 2023
Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP3559748
- Aktenzeichen
- EP17803964
- Anmeldetag
- 27. November 2017
- Veröffentlichung
- 29. März 2023
- Erteilung
- 29. März 2023
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ASML Netherlands B.V.
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
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Fachgebiete
Vertreten von
Verhoeven, Johannes Theodorus Maria
Veldhoven, Niederlande
7
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Fachgebiete
1
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-
ASML Netherlands B.V
ASML Netherlands B.V · Veldhoven