Selbst-Justiertes Herstellungsverfahren für einen Transistor mit mehreren Nanodraht oder Nanosheet Kanäle, mittels einem Spacer aus Euv Belichtetem Resist und Unbelichtetem Resist

EP3567003 Art A1 13. November 2019

Anmelder: IMEC vzw 🇧🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP3567003
Aktenzeichen: EP18171948
Anmeldetag: 11. Mai 2018
Veröffentlichung: 13. November 2019
Rechtsraum: EP
IPC: B82Y10/00H01L29/40H01L29/423H01L29/66H01L29/775H01L29/06

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: IMEC vzw
Land: 🇧🇪 Belgien

🇧🇪 imec

Imec ist ein belgisches Forschungszentrum mit Sitz in Leuven, das auf Nanoelektronik, Halbleitertechnologie und digitale Technologien spezialisiert ist.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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