Durch Mehrere Gates Induzierter Drain-Leckstrom-Generator

EP3574526 Art B1 22. Oktober 2025

Anmelder: Micron Technology, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP3574526
Aktenzeichen
EP17749106
Anmeldetag
11. August 2017
Veröffentlichung
22. Oktober 2025
Erteilung
22. Oktober 2025
Rechtsraum
EP
IPC
G11C16/04G11C16/16H10B43/27
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
Micron Technology, Inc.
Land
🇺🇸 USA
🇺🇸 Micron Technology

US-amerikanisches Halbleiterunternehmen mit Sitz in Boise, Idaho. Micron entwickelt und fertigt Speicherchips wie DRAM und NAND-Flash sowie Speicherlösungen für Computer, Mobilgeräte, Rechenzentren und Automobile.

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Kanzlei
Marks & Clerk LLP

Marks & Clerk zählt zu den ältesten und international breitesten IP-Kanzleien: 1887 in Birmingham gegründet, ist sie heute mit eigenen Büros auf drei Kontinenten präsent und deckt das gesamte Spektrum des gewerblichen Rechtsschutzes ab.

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