Herstellungsverfahren für ein Siliciumcarbidsubstrat und Siliciumcarbidsubstrat

EP3591101 Art A1 8. Januar 2020

Anmelder: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., Cusic Inc. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP3591101
Aktenzeichen: EP18761234
Anmeldetag: 1. März 2018
Veröffentlichung: 8. Januar 2020
Rechtsraum: EP
IPC: C30B29/36H01L21/205C30B25/18C30B33/10H01L21/02H01L29/16

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
Cusic Inc.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Shin-Etsu Chemical

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von