Verdeckte Fehlererkennung und Epe-Schätzung auf Basis der Extrahierten 3D-Informationen aus E-Beam-Bildern

EP3594750 Art A1 15. Januar 2020

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP3594750
Aktenzeichen
EP18182602
Anmeldetag
10. Juli 2018
Veröffentlichung
15. Januar 2020
Rechtsraum
EP
IPC
G03F7/20G03F1/84G03F1/86G06T7/00G01N21/956
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
ASML Netherlands B.V.
Land
🇳🇱 Niederlande
🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

3.336 Patente in unserer Datenbank

Weitere Vertreter

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen