Synthetisches Quarzglashohlraumelement, Deckel für Synthetischen Quarzglashohlraum, Verpackung für Optische Vorrichtungen und Herstellungsverfahren
EP3599414
Art B1
4. September 2024
Anmelder: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP3599414
- Aktenzeichen
- EP19187412
- Anmeldetag
- 19. Juli 2019
- Veröffentlichung
- 4. September 2024
- Erteilung
- 4. September 2024
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L33/60H01L33/58H01L31/0203H01L33/48
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Shin-Etsu Chemical
Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.
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Fachgebiete
Vertreten von
-
Mewburn Ellis LLP
Mewburn Ellis LLP · München