Chemisch-Mechanische Planarisierung (cmp) von Wolfram mit Geringer Muldenbildung und Topografie mit Niedriger Erosion
EP3604468
Art B1
25. August 2021
Anmelder: Versum Materials US, LLC 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP3604468
- Aktenzeichen
- EP19188917
- Anmeldetag
- 29. Juli 2019
- Veröffentlichung
- 25. August 2021
- Erteilung
- 25. August 2021
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C09G1/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Versum Materials US, LLC
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Versum Materials US
Versum Materials US, LLC war ein US-amerikanischer Hersteller von Spezialchemikalien und -gasen für die Halbleiterfertigung, der 2019 von Merck KGaA übernommen wurde. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Halbleiter und elektrische Bauelemente sowie Oberflächentechnik, ergänzt um Farben, Klebstoffe und organische Chemie. Anmeldungen erfolgten zwischen 2002 und 2025.
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Beck Greener LLP · London