Sputtertarget und Herstellungsverfahren dafür

EP3604611 Art B1 11. September 2024

Anmelder: JX Advanced Metals Corporation, JX Nippon Mining & Metals Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP3604611
Aktenzeichen: EP18776501
Anmeldetag: 16. März 2018
Veröffentlichung: 11. September 2024
Erteilung: 11. September 2024
Rechtsraum: EP
IPC: C23C14/34C22C9/00C22C9/05C22C9/06C22F1/08C22F1/00H01J37/34C23C14/14C22C9/01

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firmen: JX Advanced Metals Corporation
JX Nippon Mining & Metals Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JX Nippon Mining & Metals

JX Nippon Mining & Metals Corporation ist ein japanisches Unternehmen der Nichteisenmetallindustrie, das Kupfer, Halbleitermaterialien und Metallverarbeitung herstellt, Teil der ENEOS-Gruppe.

1.069 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von