Vorrichtung mit mehreren Geladenen Partikelstrahlen
EP3616231
Art B1
6. März 2024
Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP3616231
- Aktenzeichen
- EP18717874
- Anmeldetag
- 4. April 2018
- Veröffentlichung
- 6. März 2024
- Erteilung
- 6. März 2024
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01J37/317H01J37/147H01J37/12
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ASML Netherlands B.V.
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
3.336 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
Peters, John Antoine
Veldhoven, Niederlande
167
Patente gesamt
11
Fachgebiete
1
Anmelder-Länder
Schwerpunkte
Weitere Vertreter
-
ASML Netherlands B.V
ASML Netherlands B.V · Veldhoven