Teilchenstrahlvorrichtung, Defektreparaturverfahren, Verfahren zur Lithographischen Belichtung und Lithographisches System
EP3627225
Art A1
25. März 2020
Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP3627225
- Aktenzeichen
- EP18195475
- Anmeldetag
- 19. September 2018
- Veröffentlichung
- 25. März 2020
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ASML Netherlands B.V.
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
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Fachgebiete
Vertreten von
Peters, John Antoine
Veldhoven, Niederlande
167
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11
Fachgebiete
1
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Schwerpunkte
Weitere Vertreter
-
ASML Netherlands B.V
ASML Netherlands B.V · Veldhoven