System und Verfahren zum Erleichtern des Chemisch-Mechanischen Polierens
EP3640972
Art A1
22. April 2020
Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP3640972
- Aktenzeichen
- EP18201087
- Anmeldetag
- 18. Oktober 2018
- Veröffentlichung
- 22. April 2020
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/306H01L21/321B24B37/00B24B49/00B24B49/04B24B49/12B24B49/16H01L21/66
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ASML Netherlands B.V.
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
3.336 Patente in unserer Datenbank
Vertreten von
Peters, John Antoine
Veldhoven, Niederlande
167
Patente gesamt
11
Fachgebiete
1
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Schwerpunkte
Weitere Vertreter
-
ASML Netherlands B.V
ASML Netherlands B.V · Veldhoven