Musterung einer Abstandsschicht in einem Interferenzfilter
EP3644100
Art A1
29. April 2020
Anmelder: Viavi Solutions Inc. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP3644100
- Aktenzeichen
- EP19203536
- Anmeldetag
- 16. März 2010
- Veröffentlichung
- 29. April 2020
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G02B5/28B44F1/08G02B5/20G07D7/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Viavi Solutions Inc.
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Viavi Solutions
US-amerikanisches Unternehmen für Netzwerk- und optische Messtechnik mit Sitz in Kalifornien. Viavi Solutions entwickelt Test-, Mess- und Überwachungslösungen für Telekommunikationsnetze und optische Anwendungen.
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Vertreten von
-
Murgitroyd & Company
Murgitroyd & Company · Glasgow