System, Lithografische Vorrichtung und Verfahren zur Verminderung der Oxidation oder Entfernung von Oxid auf einem Substratträger
EP3646116
Art B1
13. Dezember 2023
Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP3646116
- Aktenzeichen
- EP18729128
- Anmeldetag
- 8. Juni 2018
- Veröffentlichung
- 13. Dezember 2023
- Erteilung
- 13. Dezember 2023
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ASML Netherlands B.V.
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
3.336 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
Verhoeven, Johannes Theodorus Maria
Veldhoven, Niederlande
7
Patente gesamt
5
Fachgebiete
1
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Schwerpunkte
Weitere Vertreter
-
ASML Netherlands B.V
ASML Netherlands B.V · Veldhoven