Verfahren zur Messung eines Fokusparameters in Bezug auf eine Struktur, die Mithilfe eines Lithographischen Verfahrens hergestellt Wurde
EP3657257
Art A1
27. Mai 2020
Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP3657257
- Aktenzeichen
- EP18208291
- Anmeldetag
- 26. November 2018
- Veröffentlichung
- 27. Mai 2020
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ASML Netherlands B.V.
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
3.336 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
Willekens, Jeroen Pieter Frank
Eindhoven, Niederlande
49
Patente gesamt
11
Fachgebiete
2
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Schwerpunkte
Weitere Vertreter
-
ASML Netherlands B.V
ASML Netherlands B.V · Veldhoven