Auswahlbauelement und Zusammensetzung für Chalcogenid-Speichervorrichtung

EP3660932 Art B1 31. Dezember 2025

Anmelder: Micron Technology, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP3660932
Aktenzeichen
EP18209507
Anmeldetag
30. November 2018
Veröffentlichung
31. Dezember 2025
Erteilung
31. Dezember 2025
Rechtsraum
EP
IPC
H10N70/20H10B63/00// G11C13/00G11C11/22C01B19/00
Offizieller Volltext

Abstract

The disclosed composition comprising selenium, arsenic, at least one of boron, aluminum, gallium, indium, or thallium, and optionally germanium or silicon, of specific weight percentages is particularly suitable as a selector device (215) for a non-volatile cross-point memory array (200). The relative amount of the boron group element affects the selector's threshold voltage, and reduces the temporal drift thereof.

Anmelder

Firma
Micron Technology, Inc.
Land
🇺🇸 USA
🇺🇸 Micron Technology

US-amerikanisches Halbleiterunternehmen mit Sitz in Boise, Idaho. Micron entwickelt und fertigt Speicherchips wie DRAM und NAND-Flash sowie Speicherlösungen für Computer, Mobilgeräte, Rechenzentren und Automobile.

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