Sem-Fov-Fingerabdruck in Stochastischen Epe und Positionsmessungen in Grossen Fov-Sem-Vorrichtungen

EP3663855 Art A1 10. Juni 2020

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP3663855
Aktenzeichen
EP18210026
Anmeldetag
4. Dezember 2018
Veröffentlichung
10. Juni 2020
Rechtsraum
EP
IPC
G03F7/20
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
ASML Netherlands B.V.
Land
🇳🇱 Niederlande
🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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