Substrattrennverfahren

EP3664131 Art A3 19. August 2020

Anmelder: HAMAMATSU PHOTONICS K. K. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP3664131
Aktenzeichen: EP19193330
Anmeldetag: 6. März 2003
Veröffentlichung: 19. August 2020
Rechtsraum: EP
IPC: H01L21/78// B23K26/40

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: HAMAMATSU PHOTONICS K. K.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hamamatsu Photonics

Japanisches Unternehmen für Photonik mit Sitz in Hamamatsu, spezialisiert auf Photodetektoren, Bildsensoren, Laser und optische Messtechnik für Wissenschaft und Industrie.

1.968 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik

Vertreten von