Verfahren und Vorrichtung zum Konfigurieren der Räumlichen Abmessungen eines Strahls Während einer Abtastung
EP3680714
Art A1
15. Juli 2020
Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP3680714
- Aktenzeichen
- EP19150960
- Anmeldetag
- 9. Januar 2019
- Veröffentlichung
- 15. Juli 2020
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F1/70G03F7/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ASML Netherlands B.V.
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
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Fachgebiete
Vertreten von
Peters, John Antoine
Veldhoven, Niederlande
167
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ASML Netherlands B.V
ASML Netherlands B.V · Veldhoven