Chemisch-Mechanisches Planarisierungs(cmp)-Polieren durch Flache Grabenisolation mit Abstimmbaren Siliziumoxid- und Siliziumnitridabtragsraten

EP3689988 Art B1 2. August 2023

Anmelder: Versum Materials US, LLC 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP3689988
Aktenzeichen: EP20154528
Anmeldetag: 30. Januar 2020
Veröffentlichung: 2. August 2023
Erteilung: 2. August 2023
Rechtsraum: EP
IPC: C09G1/02H01L21/304H01L21/306

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Versum Materials US, LLC
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Versum Materials US

Versum Materials US, LLC war ein US-amerikanischer Hersteller von Spezialchemikalien und -gasen für die Halbleiterfertigung, der 2019 von Merck KGaA übernommen wurde. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Halbleiter und elektrische Bauelemente sowie Oberflächentechnik, ergänzt um Farben, Klebstoffe und organische Chemie. Anmeldungen erfolgten zwischen 2002 und 2025.

393 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Farben, Klebstoffe & Brennstoffe Halbleiter & Elektrische Bauelemente

Vertreten von