Deflektor und System für Geladene Teilchenstrahlen
EP3690921
Art B1
12. Mai 2021
Anmelder: JEOL Ltd., Jeol Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP3690921
- Aktenzeichen
- EP20153657
- Anmeldetag
- 24. Januar 2020
- Veröffentlichung
- 12. Mai 2021
- Erteilung
- 12. Mai 2021
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01J37/147H01J37/28
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- JEOL Ltd.
Jeol Ltd. - Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
JEOL
Japanisches Unternehmen mit Sitz in Tokio, das wissenschaftliche und industrielle Präzisionsgeräte entwickelt, darunter Elektronenmikroskope, Analysegeräte und Halbleiterfertigungsanlagen.
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