Lithographische Vorrichtung und Verfahren zur Reinigung

EP3693796 Art A1 12. August 2020

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP3693796
Aktenzeichen
EP19156092
Anmeldetag
8. Februar 2019
Veröffentlichung
12. August 2020
Rechtsraum
EP
IPC
G03F7/20B08B7/00G02B26/10G02B27/00B23K26/0622
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
ASML Netherlands B.V.
Land
🇳🇱 Niederlande
🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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