Verfahren und Lithographievorrichtung zur Messung eines Strahlungsbündels

EP3696605 Art A1 19. August 2020

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP3696605
Aktenzeichen
EP19156895
Anmeldetag
13. Februar 2019
Veröffentlichung
19. August 2020
Rechtsraum
EP
IPC
G03F7/20
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
ASML Netherlands B.V.
Land
🇳🇱 Niederlande
🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

3.336 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Vertreten von
Filip, Diana Veldhoven, Niederlande
14
Patente gesamt
3
Fachgebiete
1
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