Reflektorherstellungsverfahren und Zugehöriger Reflektor
EP3703114
Art A1
2. September 2020
Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP3703114
- Aktenzeichen
- EP19159257
- Anmeldetag
- 26. Februar 2019
- Veröffentlichung
- 2. September 2020
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L23/00H01L25/065H01L33/10G03F7/20B29C65/48B32B17/06B32B38/18
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ASML Netherlands B.V.
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
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Vertreten von
-
ASML Netherlands B.V
ASML Netherlands B.V · Veldhoven