Reflektorherstellungsverfahren und Zugehöriger Reflektor

EP3703114 Art A1 2. September 2020

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP3703114
Aktenzeichen
EP19159257
Anmeldetag
26. Februar 2019
Veröffentlichung
2. September 2020
Rechtsraum
EP
IPC
H01L23/00H01L25/065H01L33/10G03F7/20B29C65/48B32B17/06B32B38/18
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
ASML Netherlands B.V.
Land
🇳🇱 Niederlande
🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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